一·真空生長爐 科研對晶體生長過程 設備用途
設備主要用于科研對晶體生長過程，可用于制備氧化物單晶和金屬單晶晶體制備，如藍寶石、GGG，YAG，LaAlO3，Si和Ge等
二·真空生長爐 科研對晶體生長過程 產品特點
1·模塊化設計，結構緊湊，外形美觀，
2·采用側部開門，結構精巧，方便，移動平穩裝卸料方便
3· 采用觸摸屏+plc控制方式，自動化程度高，操作直觀，功能強大。
4· 在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝，一次編輯，以后直接調用使用，省去多次編輯工藝的麻煩，避免輸入錯誤，燒壞產品。
5· 燒結的溫度，真空度，等數據可實時記錄，也可隨時啟動停止記錄，減少無用數據，數據可查詢，可導出下載。
6· 燒結溫度高，用石墨坩堝，最高可達2100℃，
三·設備參數
1·設備總功率：≤35Kw；電源電壓：3相380V,50Hz
2·最高溫度：2100℃ 加熱功率 ≤25Kw 三相380V 30-80KHz 高頻感應加熱
3·額定溫度：室溫~2100℃
4. 感應線圈尺寸：Ф90×100mm（直徑×高，） 中間設置保溫層坩堝底放置線圈內部，防止底部材料固化。
6·腔體尺寸臥式Ф400Ф500mm（暫定）
7.測溫系統： 在坩堝側部設計測溫孔 配置紅外測溫儀和歐陸程序儀表
9. 提拉速度： 慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）
10. 提拉桿旋轉速度0.1-25r/min
11. 提拉桿升降快速速度：≤35mm/min
12. 提拉行程：≤300mm
13. 爐內充氣壓力：≤0.03MPa
14. 冷態極限真空度：6.7*10-4pa（配置真空計，真空規管配置油陶瓷防腐涂層）
