一·真空晶體爐 晶體生長，燒結，退火等設備用途
主要用于LED行業的寶石類晶體制備，氟化物類晶體生長，燒結，退火等處理
二·真空晶體爐 晶體生長，燒結，退火等產品特點
1·模塊化設計，結構緊湊，外形美觀，
2·采用底部電動升降和鐘罩式爐體升降，結構精巧，方便，移動平穩裝卸料方便
3· 采用觸摸屏+plc控制方式，自動化程度高，操作直觀，功能強大。
4· 在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝，一次編輯，以后直接調用使用，省去多次編輯工藝的麻煩，避免輸入錯誤，燒壞產品。
5· 燒結的溫度，真空度，等數據可實時記錄，也可隨時啟動停止記錄，減少無用數據，數據可查詢，可導出下載。
6· 燒結溫度高，用石墨發熱體，發熱均勻。
三·設備參數
1· 設備總功率：≤110Kw；電源電壓：3相380V,50Hz
2·加熱功率：80kw 三相380V(暫定）
3·溫度：1500℃
4·額定溫度：0~1400℃
5. 工作區尺寸：Ф500×300mm（直徑×高，）
6·爐體內徑Ф1000*1200mm（暫定）
7·測溫系統：鎢萊熱電偶
8·控溫精度： ±1℃
9·加熱區： Ф540×600mm
10·下降速度：慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）
快速升降50-200mm/min（帶手動升降）
11·中心軸有效行程/載重： ≤450mm/200kg
12·爐內充氣壓力： ≤0.03MPa
