一、真空噴鑄甩帶熔煉爐 設備用途:
KSD-0.05真空熔煉甩帶一體爐是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備除了具有感應爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。
二、真空噴鑄甩帶熔煉爐 設備配置：
設備有高真空腔室，高真空系統，甩帶收集裝置，穩壓儲氣裝置，伺服甩帶裝置，坩堝升降裝置，感應加熱裝置，水冷裝置等組成.
三、主要技術參數
1.產品型號：KSD-0.05
2.供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 15KW
3.甩帶樣品熔煉量：10-50g;（注：用于做帶狀非晶）
4.輥輪尺寸： φ200mmx40mm φ240mmx40mm(可根據需要定制）表面光潔度0.8以上（注：甩帶一般是在1秒內完成，銅輪溫升基本無變化） 銅輪配置兩個規格各一件
5.單棍旋轉裝置（甩帶）：銅棍速度：1-3000r/min;（注：伺服電機控制無極調速可實現線速度3-40m/s的線速度調節）
6. 甩帶升降：甩帶升降采用伺服電動升降，可精密調節坩堝與銅輥的精確位置。
7.噴鑄容量：10-50g （注：用于做小塊非晶棒料，板料）
8·配置噴鑄模具1套（包含￠3*70mm ￠5*70mm ￠8*70mm三個規格 ）
9. 噴鑄升降：噴鑄升降采用氣缸電動升降，可手動精密調節坩堝與銅模之間的精確位置。
