一、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設備用途 ：
用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設備主要技術參數：
1、型號：KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統配置：TRP-48直聯泵、旁路閥及管道組成。
4、冷態極限真空度≤5Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、腔室尺寸：￠400*410
7、電源功率：≤60KW
8、熔煉坩堝設計有五個?40*5圓片型工位，三個?20*10半球形工位。
其中5個工位可帶帶磁攪拌功能。
9、工作氣體：Ar氣；
10、翻料方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件
11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
12、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿升降搖擺全部采用電動方式，設計手持式操作按鈕盒，無負重操作方便省力。
13、爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。
14、控制方式：觸摸屏+plc
三、配置清單：
1、電弧熔煉真空室 1臺
2、水冷電弧槍及電動升降 1支
3、電弧熔煉電源 1套
4、五工位水冷銅模 1套
5、翻轉機械手 1套
6、高真空系統（直聯泵+分子泵-高真空閥門） 1套
7、惰氣充放系統 1套
8、鎢電極針 2件
9、電氣控制系統 1套
10、產品合格證、使用說明書 1份
11、產品技術資料（合格證使用說明書等） 1份
12、備品備件及專用工具 1套
